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HOME > 显微镜 > 真空应用仪器[溅射装置] > 用于制造导电性薄膜的超小型溅射装置 SC-701HMCⅡ


概要
适用于钨/钛/铬薄膜制造的磁控管类型。具有微电脑控制/自动快门的标准配置
●特征・概要                     
  • W(钨)/ Ni(镍)/ Cr(铬)/ Ti(钛)等制膜的DC溅射装置。
  • 采用磁控阴极
  • 装有微电脑,制膜工艺可以高精度控制
  • 全自动/手动操作方法2种模式
  • 配备了自动卷帘装置


●用途・适用例
  • W/Ni/Cr/Ti 等の成膜
  • 燃料電池用基礎実験
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    规格

    阴极 φ2英寸 磁控阴极
    快门机构 自动/手动操作
    气体导入机构 针型阀 (自动/手动控制)
    真空泵 直连式回转泵:100l/min(具有自动泄漏)
    腔体尺寸 内径φ160mm×D160mm (不锈钢制)
    样品交换方法 前门开关式
    尺寸 (W/D/H) 本体:360/360/260mm
    RP:174/460/264mm
    重量 本体:20kg
    RP:23kg


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