概要

具有DC〜200kHz高速响应和高分辨率序列功能的四象限双极电源
●特征・概要

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

• 超小型的台式尺寸
• 操作简单
• 最适用于金属薄膜为好，理想的绝缘膜和氧化物薄膜制成
• 小型而充实的设备和可选组

规格

溅射阴极	水冷式磁控 φ2英寸×1源
溅射方向	向下
RF电源	200W　13.56MHz 带手动匹配BOX
腔内部分	φ160mm×H311mm(包括供电部分)　不锈钢制 视口/带水冷管
真空泵	DP：200l/sec　RP：20l/min TMP：67l/sec(@N2)　RP：20l/min　(可选)
极限压力	7×10-4 Pa以下
压力测量	皮拉尼真空计
气体导入机构	质量流量控制器　Ar：30sccm
尺寸・重量(本体)	W787/D400/H859mm　约80kg ※高度和重量是根据结构变动的。
所需电源	单相100V　50/60Hz　15A

可选

• 基板加热装置（300℃/600℃/1000℃型）
• 基板冷却装置
• 基板旋转倾斜单元
• 电离真空计
• 石英振荡器型膜厚监控器
• 气体导入机构追加

※除以上内容，根据需求会增加选项。