电子显微镜的制样装置，用于离子研磨装置 SVM-721
显微镜
| 概要 |
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操作简单价格低廉的离子铣设备
●特征・概要
- 正是在这种情况不能与电解抛光和化学抛光处理的样品上表面的抛光的最佳设备。
- 这是最好的离子铣装置作为用于电解抛光和化学抛光过程后精加工。
- 它不需要特殊的样品制作到离子铣削（部分制备超薄切片等）。
- 相较于FIB设备，优良的性能信价比。
| 规格 |
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| 离子源 | 方式 | 冷阴极潘宁装置 | ||
| 加速电压 | 2?8kV（1kV step） | |||
| 光束电流 | 最大150μA | |||
| 光束径 | φ4mm | |||
| 光轴对齐 | 专用导轨夹具 | |||
| 铣削速度 | 最大 50nm/min (8kV/Si基板) | |||
| 工作气体 |
Ar气体 (99.9%以上) 通过手动针阀 |
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| 腔体部分 | 内径φ160mm×深度140mm | |||
| 样本尺寸 |
最大φ50mm/t20.5mm 在埋入树脂的情况下 φ32mm/t17.5mm（使用专用支架 |
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| 样品台 | 高度 | 0?10mm可变（安装样品时需要调整） | ||
| 偏心量 | 最大±4mm（安装样品时需要调整） | |||
| 倾斜 | 0°/60°/80° 的3个档位 | |||
| 回转速度 | 大约15rpm（固定） | |||
| 真空泵 | TMP | 67L / sec(@N2) | ||
| RP | 20L / min | |||
| 设置 | 尺寸 | 本体 | 280(W)/320(D)/460(H)mm | |
| RP | 156(W)/296(D)/200(H)mm | |||
| 重量 | 本体 | 约30kg | ||
| RP | 约10kg | |||
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需要 电源 |
单相100V 50/60Hz 10A 带GND的3极插头规格 |
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