RF/DC溅镀设备 SVC-700RFⅡ
显微镜
| 概要 |
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具有良好的可扩展RF溅射装置
●特征・概要
- 用于绝缘膜和氧化物薄膜制造
- 广泛的设备和可选组
- RF磁控管溅射优异成本性能
- 提供了以适应基板的两种不同类型的尺寸和一个溅射靶
| 规格 |
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| SVC-700RFⅡ Type-Ⅰ | SVC-700RFⅡ Type-Ⅱ | |
| 溅射阴极 |
水冷式磁控 φ2英寸×3源 φ4英寸×1源 |
水冷式磁控 φ2英寸×3源 φ4英寸×2源 φ6英寸×1源 |
| 溅射方向 | 向上 | |
| RF电源 |
300W 13.56MHz 带手动匹配BOX |
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| 腔内部分 |
φ230mm×H200mm 不锈钢制 视口/带水冷管 |
φ320mm×H325mm 不锈钢制 视口/带水冷管 |
| 真空泵 | TMP：260l/sec(@N2) RP：100l/min | |
| 极限压力 | 10-5 Pa 台 | |
| 压力测量 | 皮拉尼真空计/电离真空计 | |
| 气体导入机构 | 质量流量控制器 Ar：30sccm | |
| 尺寸・重量 |
本体：W744/D595/H1046mm 约140kg(RP其他位置) ※本体/控制板の高度和重量是根据结构变动的。 |
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| 所需电源 | 单相100V 50/60Hz 3kVA | |
可选
- 基板加热装置（300℃/600℃/1000℃型）
- 基板冷却装置
- 基板旋转倾斜单元
- 电离真空计
- 石英振荡器型膜厚监控器
- 气体导入机构追加
※除以上内容，根据需求会增加选项。
